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    臺積電的5nm工藝已經量產一年多了,今年就要量產3nm工藝了,不過這代工藝歷經多次波折,臺積電已經改變策略率先量產第二版的N3B工藝,今年8月份就要量產,可惜今年iPhone 14的A16芯片已經錯過機會了。

    據《聯合報》消息,臺積電的3nm工藝最近取得了重大突破,將于今年8月份在新竹12廠研發中心第八期工廠及南科18廠P5廠同步投片量產。

    此前我們也報道過,臺積電的3nm會有多個版本,至少包括N3、N3E、N3B。

    現在8月份要量產的是N3B版,2023年還會有增強版的N3E工藝量產。

    據悉,N3E工藝將使用更少的EUV光刻層,從25層縮減到21層,投產難度更低,良率也能更高,成本自然得以下降,但是晶體管密度會比N3版本低大約8%,相比N5仍然會高60%。

    按照以往的慣例,臺積電每代新工藝的首發客戶基本上都是蘋果,但是現在3nm工藝要到下半年才量產,今年iPhone 14用的A16處理器趕不上了,它使用的還是5nm改進的4nm工藝,因此會在去年5nm A15的基礎上繼續改進,是不是擠牙膏還不好說,就看具體能提升多少性能了。

    臺積電3nm工藝重大突破或將8月量產:蘋果iPhone 14無緣采用

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